温晓镭

• 单位：国家同步辐射实验室

• 地址：安徽省合肥市蜀山区合作化南路42号

• 邮编：230029

• 邮箱：xiaolwen@ustc.edu.cn

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• 个人简历
  

• 温晓镭，女，1986年生，安徽合肥人，中国科学技术大学高级工程师。主要从事半导体先进制造相关技术研究，开发基于纳米光刻和聚焦离子束的极端精度微纳加工技术，以及微纳光学元件的设计与制造。

• 教育经历

• 2008.09 -- 2014.06 中国科学技术大学，光学，博士

• 2011.09 -- 2013.09 Purdue University，Mechanical Engineering，CSC公派留学

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• 工作经历

• 2014.08 -- 2022.11 中国科学技术大学 工程师

• 2022.12 -- 至今 中国科学技术大学 高级工程师

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• 研究方向

• 1. 同步辐射干涉光刻

• 2. 极端精度微纳加工

• 3. 微纳光学元件设计与制造

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• 论文专著

1) Helium Ion-Assisted Wet Etching of Silicon Carbide with Extremely Low Roughness for High-Quality Nanofabrication. Small Methods 2024, 8(5), 2301364.

2) Versatile Approach of Silicon Nanofabrication without Resists: Helium Ion-Bombardment Enhanced Etching. Nanomaterials 2022, 12 (19), 3269.

3) 3-D Nanofabrication of Silicon and Nanostructure Fine-Tuning via Helium Ion Implantation. Advanced Materials Interfaces 2022, 9 (10), 2270052.

4) High throughput optical lithography by scanning a massive array of bowtie aperture antennas at near-field. Scientific Reports 2015, 5, 16192.

5) Optical nanolithography with λ/15 resolution using bowtie aperture array. Applied Physics A 2014, 117 (1), 307-311.